蒸发镀膜和溅射镀膜各有优点，应该依具产品和工艺来决定使用哪种。

一般：蒸发镀膜速率快，重复性相对较差，薄膜的附着力相对较低，材料利用率高

溅射镀膜成膜速率相对慢，重复性好。薄膜的附着力大，材料利用率相对低

中频磁控溅射的基本原理：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面进行螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率，所产生的离子在电场作用下撞击靶面，从而溅射出靶材。

采用中频溅射的优点是可得到光滑致密，膜层硬度高，膜厚可线性增长，不中毒，温升缓和,但設備的要求較高,工作壓強範圍很窄,各種控制要求快速精準.

应用多层膜干涉原理的薄膜防伪技术主要有两种：一种是“整膜”的薄膜防伪技术；另一种是“碎膜”防伪技术。整膜和碎膜是指膜的形态而言。整膜是指一般意义上的防伪膜系；碎膜是指对反射式防伪膜系进行破碎，然后将碎片加入油墨中制成防伪油墨，再用这种防伪油墨进行防伪印刷。

防伪膜种类很多，从使用方法可分为反射式和透射式；从膜系附着方式可以分为直接镀膜式、间接镀膜转移式或间接镀膜剪贴式。