根据离子的性质,离子源可分为气体离子源和金属离子源,金属离子源本身就是一个镀膜源,而充入气体离子源的气体如果是含碳或金属的化合物气体,则可以进行等离子体增强的化学气相沉积,这气体离子源也是镀膜源.如果充入气体离子源的气体是惰性气体,则可以与其它镀膜源一起进行离子辅助镀膜,若充入气体离子源的气体是活性气体,则可以进行离子活化反应镀膜,形成相应的化合物膜.在镀膜前,离子源还可以完成镀前的预处理,如镀膜室和工件加热去气,工件表面离子轰击清洗,表面粗糙化等.荷能粒子与表面的相互作用,中性粒子被离化,此离子被引出加以利用.因此,离子源内的物理过程大致分为离化和引出两部分.在真空镀膜中,镀前的离子轰击去气,离子清洗和离子轰击加热,在镀膜中,与镀膜源配合进行离子辅助镀膜.与上述的溅射情况相似,可以在镀膜室内形成等离子体,进行离子辅助镀膜,这时镀膜室内的真空度不可能高.也可以从气体离子源引来离子束,这样的离子辅助镀膜可以在高真空下进行,这特别适合与电子束蒸发源配合的离子辅助镀膜.