光学薄膜是现代光学和光电系统中重要的组成部分，它已成为光通信、光显示、激光加工、激光核聚变等高科技和工业领域的核心部件。光学镀膜设备技术的突破往往成为加速现代光学和光电系统发展的主要原因，光学薄膜的技术性能和可靠性直接影响应用系统的性能、可靠性和成本。

随着行业的不断发展，光学系统对光学薄膜的精度和光谱控制能力要求越来越高，而消费类电子对光学薄膜的需求则强调大众的易用性和舒适性和大批量生产规模。光学镀膜技术取得了很大的进步，在过去的几十年里。从电子束热蒸发、舟皿蒸发和离子束辅助沉积技术到离子束溅射和磁控溅射技术。近年来，这些沉积技术和设备的主要技术进步包括：

间歇式直接光控：国外公司在光学镀膜过程中越来越多地使用间歇式信号采集系统，对镀膜过程中的产品进行直接监控。与间接光学控制和晶体控制系统相比，间歇直接光学控制系统有利于减少实际产品上的膜厚分布误差，并能进一步提高产品成品率，减少工艺调试时间。

渐变折射率结构薄膜技术与装备：大量研究工作证明，无界面薄膜结构和多折射率薄膜结构通过加强薄膜厚度方向折射率分布的调制，消除薄膜界面特性，消除界面效应，如界面处的电磁波吸收中心和散射密度高于薄膜内部，还增加了薄膜的机械稳定性，可以设计出非常复杂的光谱特性。

中国的光学和光电产业在扩容和技术更新的过程中，需要大量的光学镀膜设备。在相关零部件的研发过程中，及时的技术创新和相应的设备支持也是技术创新的基石，是整个行业可持续发展的基本策略。

中国在光电技术、机械、真空技术、光机电自动化控制等领域开展了大量的研究工作，形成了完善的产业集群,取得了长足的技术进步，是发展光学镀膜设备的重要基础。如果光学镀膜设备领域能够带领真空机械、光电子、薄膜技术等领域的协同创新，共同开发出我们自己的光学镀膜设备，将会进一步加快我国光电产业和光学的发展。