产品概述 该设备可在锗、硅、硒化锌、硫化锌基底上镀制高透射率的DLC膜层，可镀膜零件，Φ300左右平面零件，也可根据客户要求设计。

结构特点 ◆ 设备结构设计合理，使用操作，维护及维修方便，噪音低，可靠性高，且安全性能好，外型美观和价格合理。 ◆ 设备由优质不锈钢真空室，涡轮分子泵高真空抽气系统，水冷沉积靶及RF射频源，烘烤及控制系统，高精度气体输入系统。 ◆ 镀膜过程控制系统(沉积系统)等部件组成。 ◆ 真空室内部不小于Φ700X500可镀膜零件最大尺寸<Φ400平面零件，可通热水与冷水的铜靶或不锈钢水循环系统 。 ◆ 真空抽气系统： 无油高真空抽气系统，低真空泵为直联泵，阀门，真空规管等具有防腐蚀功能。 其中高阀为高精度电动高阀，预 PECVD类金刚石薄膜沉积设备 PECVD diamond-like carbon film deposition equipment 抽阀与粗抽阀为气动阀。 ◆ 烘烤及温控：石英管加热或陶瓷加热，最高温度≥300度可调 ◆ 水冷沉积靶及射频电源：水冷阴极靶由无氧铜制造，内通循环冷却水，可连续转动，速度可调。 ◆ 气体馈入及控制系统：四路四显进口流量计，工控机操作控制流量计，可控制充气比例及真空室压强。流量0~300ccm/s可调。

技术指标：极限真空度：1.2×10-4Pa 恢复真空度：8×10-4Pa≤45min 分子泵F-250，直联泵卧式顶盖升降 ◆ ◆ ◆ 技术指标 内腔尺寸：Φ700×500mm 进口射频电源 ◆ ◆ 进口四路四显质量流量计 靶向距离可以调节 (范围200±100mm)